Comportamiento electroquímico del aluminio en cultivos de cladosporim resinae.

Descripción

C. Salvarezza, M. A. Gariboglio y H. A. Videla

RESUMEN

Se estudia el comportamiento electroquímico del aluminio y sus aleaciones en cultivos de Cladosporium resinae utilizando técnicas electroquímicas convencionales complementadas con microscopia electrónica de barrido y análisis por dispersión de rayos X.

Los resultados obtenidos muestran que el crecimiento microbiano va acompañado de un descenso de la energía superficial de la interfase película pasivante/electrólito, de un descenso de los potenciales de picado y del tiempo de inducción para la iniciación del mismo. La adherencia del hongo a la superficie metálica promueve la disolución, actuando los puntos de fijación del micelio como centros de nucleación para el picado.

La corrosión localizada del metal se produce por: a) un incremento en la concentración local de protones derivados de la producción de ácidos orgánicos, b) la producción de metabolitos aún no identificados y c) una disminución de la concentración de inhibidores. Estos factores favorecen la acción de los aniones cloruro presentes en el electrólito.

El proceso total parece estar estrechamente relacionado con la actividad enzimática del microorganismo y depende, de manera compleja, de la composición del medio de cultivo. Estas consideraciones permiten explicar recientes resultados publicados sobre el sistema aluminio/Cladosporium resinae.

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